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Dilution & 입도 분석 시스템은 주로 화학물질이나 슬러리(Slurry)와 같은 액체를 특정 비율로 희석하여 입자의 크기를 측정하는 장비입니다.
화학물질이나 슬러리를 정확한 비율로 희석하여 공정에 필요한 농도로 만듭니다.
이는 공정의 일관성과 반복성을 보장하는데 중요합니다.
Dilution & 입도 분석 시스템은 자동화된 제어 기능을 갖추고 있어, 사용자가 설정한 비율대로 정확하게 희석할 수 있습니다.
이를 통해 휴먼 에러를 최소화하고 생산성을 향상시킵니다.
다양한 종류의 화학물질과 슬러리에 적용 가능하며, 공정에 따라 특정 화학물질의 희석 요구사항을 충족시킬 수 있습니다.
정밀한 희석은 화학물질의 낭비를 줄이고, 공정 중 화학물질의 취급에 있어 안전성을 높입니다.
이러한 시스템은 반도체 공정의 중요한 단계에서 사용되며, 고도로 정밀한 제조 공정을 가능하게 하여, 반도체 기기의 성능과 신뢰성을 높이는데 기여합니다.